Металлургия Оглавление Металлургия Конденсация тетрахлорида титана

Конденсация тетрахлорида титана

Конденсация тетрахлорида титана

Конденсация тетрахлорида титанаКонденсация паров

Пары ТіСl4 разбавлены (СО, СO2, N2, Сl2), загрязнены парами других хлоридов (SiCl4, ССl4, НСl, VOCl3), а также мелкими частицами шихты и возгонами. Более полное представление о составе газов, выходящих из хлораторов при температуре около 300° С, и агрегатном состоянии примесей можно составить по

рис. Надо заметить, что в газах шахтных хлораторов много СО, они взрывоопасны и требуют предохранительных устройств. После жидкой ванны окиси углерода сравнительно мало, а больше СО2. Объем газов меньше и выпуск их из печи возможен без предосторожностей.

Извлечение титана из шлаков в технический тетрахлорид 93% и он содержит примерно:

Элемент ….                Si Al Fe V ТіОСl2 СОСl2 Сl2 S

Концентрация, % . 0,2 0,05 0,02 0,1 0,3 0,1 0,05 0,02

Схема очистки и конденсации показана на рис. 2. Газы направляются в камеру, где вместе с пылью оседают твердые хлориды железа и алюминия. Далее они проходят в башни с насадкой, орошаемые жидким охлажденным ТіСl4. Здесь улавливают основное количество летучих хлоридов, а остаток их в трубчатом холодильнике при температуре минус 10—15° С Жидкий ТlСl4 сливается в сгуститель, где из него оседают самые мелкие частицы, образующие отвальный шлам. Часть осветленного тетрахлорида после охлаждения в холодильнике возвращают в оросительные башни, а остальной, отфильтрованный через пористую керамику или активированный уголь, поступает на дальнейшую очистку.

Рис. Давление паров тетрахлорида титана и примесей: 1 — SiCl4; 2 — VOCl2; 3 — ТіСl4; 4 — Si2OCl6; 5 — AlCl3 ; 6 — Si3Cl6; 7 — C6Cl6; 8 — FeCl3; 9 — ZrCl4; 10 — CrCl3; 11 — FeCl2; 12 — MnCl2; 13 — CrCl2; 14 — MgCl2; 15 — NaCl

Конденсация тетрахлорида титана

Рис. 2 . Схема oчистки и конденсации паров тетрахлорида титана:

1 — хлоратор; 2 — осадительная камера; 3 — оросительная башня; 4 — холодильник) 5 — сборник; 6 — конденсатор; 7— насос; 8 — сгуститель; 9 — фильтр; 10 — сборник технического тетрахлорида

Очистка технического тетрахлорида

Примесь SiCl4 имеет более низкую точку кипения (58°С), чем ТіСl4 (136°С), а другие хлориды кипят при сравнительно высоких температурах (см. рис.). Очистку проводят двустадийной ректификацией. SiCl4, а также ССl4, CS2, SOCl2 и другие НКК отделяют в первой колонне при температурах укрепляющей части 60—130° С, а в кубе 140° С (рис. 3). Предел очистки от кремния ~10-3% ограничен из-за невозможности отделения Si2OCl6, кипящего как и ТіСl4, при 136° С.

Конденсация тетрахлорида титана

Рис. 3. Схема двустадийной ректификации технического тетрахлорида титана: 1 — напорный бак; 2 — электронагреватель; 3 — колонна для отгонки низкокипящих хлоридов (нкк); 4 — дефлегматор; 5 —регулятор отбора дистиллята; 6 — электронагреватель; 7 — куб-испаритель; 5 —насос; 9 — электронагреватель; 10 — куб-испаритель; 11 — колонна для отгонки ТіСl4; 12 — дефлегматор; 13 — регулятор отбора дистиллята; 14 — сборник чистого тетрахлорида

Хлориды железа, NbCl5, ТіОСl2 и другие ВКК отделяют ректификацией кубового остатка. В дефлагматоре второй колонны получают тетрахлорид титана, содержащий каждую из примесей в количествах не более 10-3,%.

Ректификационные колонны с ситчатыми или щелевыми тарелками делают из нержавеющей стали.

Примесь VOCl3 с весьма близкой температурой кипения (127° С) трудно отделить ректификацией. Ее предварительно восстанавливают медным порошком до VOCl2. Медь реагирует также с AlCl3 и при этом пассивируется, Очистку проводят в механических мешалках. Сначала водой, добавляемой во влажном активированном угле, гидролизуют AlCl3, оксихлорид его выпадает в осадок:

АlСl3 + Н2O = АlOСl + 2HCl

Затем добавляют медный порошок в пятикратном количестве к массе ванадия. После получасового перемешивания при остатке в растворе менее 10-3% ванадия очистку заканчивают, кек отфильтровывают и направляют на отдельную переработку, а фильтрат — на ректификацию.

Известен также сероводородный способ удаления ванадия; однако он требует дорогой 1 герметичной аппаратуры из-за токсичности H2S.

Тетрахлорид кремния, получаемый в качестве отхода ректификации,— ценный продукт. После дополнительной очистки он идет на производство элементарного кремния и его соединений. Ванадиевый шлам пригоден для получения металла, но при медной очистке он беден. Применение сероводорода в этом отношении имеет преимущество, но из-за его токсичности менее распространено.

 

Статья на тему Конденсация тетрахлорида титана

Топовые страницы