Что такое вольфрамирование
Жидкофазное вольфрамирование обычно осуществляют электролизом или восстановлением расплава вольфрамата натрия (Na2WО4), продувая через него водород или аммиак, либо вводя твердый восстановитель (напр., силикокальций). Диффузионное вольфрамирование проводят при т-ре 1000—1300° С в течение 6—24 ч. Толщина, хим. и фазовый состав диффузионного слоя зависят от природы материала основы и режима насыщения. При вольфрамировании, напр., стальных изделий в зависимости от хим. состава стали и параметров процесса в диффузионной зоне образуются карбид W2С, вольфрамиды FeW и Fe7We, а также твердый раствор вольфрама в альфа-железе.
Диффузионное вольфрамирование как правило, является промежуточной операцией химико-термической обработки, предшествующей, напр., цементации, борированию, силицированию. Покрытия из чистого вольфрама наносят напылением (плазменные покрытия, детонационные покрытия), хим. осаждением из газовой фазы, также вакуумным испарением. Плазменное напыление вольфрамовых покрытий проводят в герметичной камере с защитным инертным газом. Чистота, плотность и прочность сцепления металла покрытия с материалом основы и др. св-ва зависят от электр. мощности плазменной горелки и расхода плазмо-образующего газа, дистанции напыления, расхода напыляемого порошка, его гранулометрического состава и др.
При оптимальных условиях напыления плотность покрытий не превышает 90—92% от теоретической плотности вольфрама. Для повышения плотности (до 95— 96%) и улучшения всех остальных св-в покрытий прибегают к термообработке изделий при т-ре 1500— 2500° С в водородной среде или в вакууме в течение 5—15 ч. Детонационным способом получают вольфрамовые покрытия с плотностью 97—99% от теоретической плотности вольфрама и прочностью сцепления в полтора-два раза выше, чем у плазменных. Осаждение вольфрамовых покрытий из газовой фазы осуществляют обычно восстановлением фторида WFe или хлорида WCl6 водородом при т-ре 600—1200° С. Используют также диссоциацию хим. соединений WCl6, WBr6 или W (СО)6 при т-ре обычно выше 1000° С.
Осаждением из газовой фазы можно получать поли- и монокристаллические покрытия с определенной кристаллографической ориентацией. Структура, чистота, толщина и др. св-ва покрытий определяются режимами осаждения. При напылении или хим. осаждении покрытий вольфрама на удаляемые формозадающие оправки из графита, меди, стали и др. можно получать т. н. корковые изделия различной формы и назначения: сопла, втулки, трубки с любой формой сечения и т. д. Плотность этих изделий повышают последующей термообработкой при высоких т-рах. Покрытия из чистого вольфрама используют в электро-и радиотехнике, атомной энергетике, хим. промышленности, электронике, ракетной технике.
Вы читаете, статья на тему вольфрамирование